X射線探傷設(shè)備原理

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X射線探傷設(shè)備原理

X射線設(shè)備使用高壓加速電子來釋放X射線，這些X射線會(huì)穿透樣品并留下圖像。技術(shù)人員通過圖像的亮度觀察樣品的相關(guān)細(xì)節(jié)。它可以檢測(cè)到一系列異常，例如PCB電路斷開，IC缺陷，焊球開裂。

1.首先，X射線設(shè)備主要利用X射線的穿透作用。 X射線的波長短，能量大。當(dāng)它們照射到物質(zhì)上時(shí)，該物質(zhì)只能吸收一小部分，并且大部分X射線。射線的能量將穿過物質(zhì)原子之間的間隙，顯示出強(qiáng)大的穿透能力。

X射線設(shè)備通過X射線穿透要測(cè)試的樣品，然后將X射線圖像映射到圖像檢測(cè)器上。圖像形成質(zhì)量主要取決于分辨率和對(duì)比度。一般來說，X射線設(shè)備的X射線管也決定著X射線設(shè)備的功能。

2. X射線設(shè)備可以檢測(cè)X射線的穿透能力與物質(zhì)密度之間的關(guān)系，并且差分吸收的特性可以區(qū)分不同密度的物質(zhì)。因此，如果檢查對(duì)象破裂，則厚度不同，形狀變化，X射線的吸收率不同，所得到的圖像也不同，因此可以產(chǎn)生區(qū)別的黑白圖像。

X射線管主要通過電場(chǎng)從熱陰極提供電子以加速到陽極。當(dāng)電子在數(shù)十千伏的高壓下迅速加速到高速狀態(tài)時(shí)，動(dòng)能被轉(zhuǎn)換為釋放X射線，當(dāng)它們撞擊陽極體時(shí)。碰撞區(qū)域的大小是X射線源的大小。通過小孔成像原理，我們可以大致知道X射線源的大小與清晰度成反比，即X射線源越小，圖像越清晰。

3.X射線檢測(cè)器彌補(bǔ)了過去化學(xué)膜成像的不足。檢測(cè)器可以節(jié)省成本，同時(shí)提高效率。可用于IGBT半導(dǎo)體檢查，BGA芯片檢查，LED燈條檢查，PCB裸板檢查，鋰電池檢查，鋁鑄件的無損檢查。

4.簡(jiǎn)而言之，它是通過使用非破壞性微焦點(diǎn)X射線設(shè)備輸出高質(zhì)量的透視圖像，然后轉(zhuǎn)換平板探測(cè)器接收到的信號(hào)。只需使用鼠標(biāo)即可完成操作軟件的所有功能，非常易于使用。標(biāo)準(zhǔn)的高性能X射線管可以檢測(cè)到5微米以下的缺陷，某些X射線設(shè)備可以檢測(cè)到2.5微米以下的缺陷，系統(tǒng)放大率可以達(dá)到1000倍，并且物體可以移動(dòng)和傾斜?？梢酝ㄟ^X射線設(shè)備執(zhí)行手動(dòng)或自動(dòng)檢測(cè)，并且可以自動(dòng)生成檢測(cè)數(shù)據(jù)報(bào)告。