下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定。
XTU-4C是一款專業(yè)性能型鍍層測(cè)厚儀/膜厚測(cè)試儀/光譜測(cè)厚儀,下照式微聚焦多準(zhǔn)型設(shè)計(jì),搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定。
微聚焦加強(qiáng)型X射線裝置:可測(cè)試各類極微小的樣品,即使檢測(cè)面積為0.003mm2的樣品也可輕松、精準(zhǔn)檢測(cè)
變焦裝置及位置補(bǔ)償算法:可對(duì)各種異性凹槽進(jìn)行檢測(cè),凹槽深度測(cè)量范圍可達(dá)0-30mm
自主研發(fā)EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量
微米級(jí)移動(dòng)精度:高精密XY移動(dòng)滑軌,實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè),移動(dòng)精度可達(dá)5um,輕松應(yīng)對(duì)極微小樣品檢測(cè)
*解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限
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