作為集成電路的芯片載體的引線框架,它起到了和外部導(dǎo)線連接的橋梁作用,絕大部分的半導(dǎo)體集成塊中都需要使用引線框架,是電子信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。封裝基板是Substrate(簡稱SUB)?;蹇蔀樾酒峁╇娺B接、保護(hù)、支撐、散熱、組裝等功效,以實(shí)現(xiàn)多引腳化,縮小封裝產(chǎn)品體積、改善電性能及散熱性、超高密度或多芯片模塊化的目的。作為芯片封裝的載體和基板,為了保證芯片和引線框架和基板的良好連接,會在引線。
作為集成電路的芯片載體的引線框架,它起到了和外部導(dǎo)線連接的橋梁作用,絕大部分的半導(dǎo)體集成塊中都需要使用引線框架,是電子信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。封裝基板是Substrate(簡稱SUB)?;蹇蔀樾酒峁╇娺B接、保護(hù)、支撐、散熱、組裝等功效,以實(shí)現(xiàn)多引腳化,縮小封裝產(chǎn)品體積、改善電性能及散熱性、超高密度或多芯片模塊化的目的。
作為芯片封裝的載體和基板,為了保證芯片和引線框架和基板的良好連接,會在引線框架以及基板上進(jìn)行鍍銀或者化學(xué)鎳鈀金(ENEPIG)的電鍍處理。
ENEPIG工藝,是指在基材表面先鍍化學(xué)鎳然后在鍍鈀和金,Au 和 Pd 的涂層厚度僅為幾納米。為了確保產(chǎn)品品質(zhì),必須要對低至納米的鍍層厚度進(jìn)行測量。
1、多導(dǎo)毛細(xì)光學(xué)系統(tǒng)和高性能SDD探測器:區(qū)別金屬準(zhǔn)直,多導(dǎo)毛細(xì)管可將光束縮小至10 μm,同時(shí)得到數(shù)千倍的強(qiáng)度增益??蓽y量超微小樣品的同時(shí)極大程度保證了測試的準(zhǔn)確性及穩(wěn)定性。
2、微米級超小區(qū)域:在Elite-X光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)下大大降低檢出限,納米級超薄鍍層均可準(zhǔn)確、可靠測試
3、廣角相機(jī):樣品整體形貌一覽無余,且測試位置一鍵直達(dá)
4、搭配高分辨微區(qū)相機(jī):千倍放大精準(zhǔn)對焦測試區(qū)域,搭配XY微米級移動平臺,三維方向?qū)咕劢箿y試點(diǎn)位,誤差<±2 μm
5、多重保護(hù)系統(tǒng):V型激光保護(hù),360°探入保護(hù),保護(hù)您的樣品不受損害,保證儀器安全可靠的運(yùn)作
6、全自動移動平臺:可編程化的操作,針對同一類型樣品,編程測試點(diǎn)位,同一類樣品自動尋路直接測試
7、人性化的軟件:搭配EFP核心算法軟件,人機(jī)交互,智慧操作
8、可搭配全自動進(jìn)送樣系統(tǒng),與您的產(chǎn)線配合
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