簡(jiǎn)要描述:柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)。
品牌 | SKYRAY/天瑞儀器 | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-20萬(wàn) |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,電子,航天,汽車(chē),綜合 |
分辨率 | 140EV | 元素分析 | 硫(S)到鈾(U) |
外觀尺寸 | 576(W)×495(D)×545(H)?mm | 樣品室尺寸 | 500(W)×350(D)×140(H)?mm |
柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀:
柔性電路板鍍層厚度測(cè)試儀XRF應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù),輕松應(yīng)對(duì)超小測(cè)量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測(cè)量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)。XAD-μ多導(dǎo)毛細(xì)聚焦XRF應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù),輕松應(yīng)對(duì)超小測(cè)量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測(cè)量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動(dòng)測(cè)試分析中盡顯優(yōu)勢(shì)主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)
主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現(xiàn)X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強(qiáng)度增加2~3個(gè)數(shù)量級(jí)。
儀器的高集成光路系統(tǒng)的基礎(chǔ)上,搭配多導(dǎo)毛細(xì)管 實(shí)現(xiàn)極小面積或極薄鍍層的高速、精確、穩(wěn)定的測(cè)量,聚焦直徑可小至10μm
? 多導(dǎo)毛細(xì)聚焦技術(shù),可產(chǎn)生比準(zhǔn)直器機(jī)構(gòu)強(qiáng)千倍的信號(hào)強(qiáng)度
? 多導(dǎo)毛細(xì)管將激發(fā)光束非常高強(qiáng)度的集中在一個(gè)的小光斑上,從而顯著縮短測(cè)量時(shí)間
? 在測(cè)量納米級(jí)Au厚度或薄膜層厚度及成分時(shí),滿(mǎn)足微小光斑、短測(cè)量時(shí)間的同時(shí),測(cè)量效果
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