晶圓微區(qū)鍍層厚度分析儀 XRF膜厚儀：

晶圓微區(qū)鍍層厚度分析儀 XRF膜厚儀應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù)，輕松應(yīng)對超小測量點薄涂層和極薄涂層的測量分析，在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優(yōu)勢。XAD-μ多導(dǎo)毛細(xì)聚焦XRF應(yīng)用多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù)，輕松應(yīng)對超小測量點薄涂層和極薄涂層的測量分析，在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節(jié)、晶圓微區(qū)的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優(yōu)勢主要利用X射線全反射原理，從X射線管激發(fā)出來的X射線束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進行傳輸，利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來改變X射線的傳輸方向，從而實現(xiàn)X射線匯聚，同時將X射線的強度增加2～3個數(shù)量級

主要利用X射線全反射原理，從X射線管激發(fā)出來的X射線束在毛細(xì)玻璃管的內(nèi)壁以全反射的方式進行傳輸，利用毛細(xì)玻璃管的彎曲來改變X射線的傳輸方向，從而實現(xiàn)X射線匯聚，同時將X射線的強度增加2～3個數(shù)量級。

儀器的高集成光路系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，搭配多導(dǎo)毛細(xì)管 實現(xiàn)極小面積或極薄鍍層的高速、精確、穩(wěn)定的測量，聚焦直徑可小至10μm

? 多導(dǎo)毛細(xì)聚焦技術(shù)，可產(chǎn)生比準(zhǔn)直器機構(gòu)強千倍的信號強度

? 多導(dǎo)毛細(xì)管將激發(fā)光束非常高強度的集中在一個的小光斑上，從而顯著縮短測量時間

? 在測量納米級Au厚度或薄膜層厚度及成分時，滿足微小光斑、短測量時間的同時，測量效果

測量精度更高：新開發(fā)的光學(xué)器件的多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù)可對超微小區(qū)域及納米級薄層高精度測量

超微小樣品檢測：精確測試最小測量點直徑可達(dá)10µm，全球測量微點技術(shù)

測量效率高：高靈敏度、高解析度X熒光檢測系統(tǒng)搭配多導(dǎo)毛細(xì)管技術(shù)，測量時間更短，能夠?qū)崿F(xiàn)普通機型幾倍的檢測量

適配性強：適用于各類樣品尺寸的產(chǎn)品線，如600*600mm大型印刷電路板

操作體驗佳：高精細(xì)樣品觀察圖像，微區(qū)小至納米級別的分辨率，實現(xiàn)更快速便捷的測試

自動、智能：搭載可編程全自動位移平臺，無人值守、自動檢測樣品同時搭載影像識別功能，自動判定測試位置